光刻机概念股市场龙头股一览，光刻机概念股定义：光刻机被誉为半导体制造业皇冠上的明珠，掌握光刻机制造技术是发展国产芯片的关键。光刻机概念股上市公司股票有53家。那么，光刻机概念股市场龙头股一览，本文详细分析。

光刻机概念股龙头一览表：

1、南大光电300346：5月28日盘后最新消息，收盘报：26.56元，涨幅：0.11%，摔手率：10.2%，市盈率（动）：43.94，成交金额：140936.06万元，年初至今涨幅：-3.66%，近期指标提示MACD金叉。概念解析： 21年3月在互动平台表示，公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。近日拿到首个订单，拟进行小批量生产，目前尚未签署大批量订单。

2、广信材料300537：5月28日盘后最新消息，收盘报：16.83元，涨幅：-0.77%，摔手率：21.55%，市盈率（动）：56.38，成交金额：52344.95万元，年初至今涨幅：-14.22%，近期指标提示EXPMA金叉。概念解析：公司在互动平台回复称公司光刻胶项目研发正在进行中，已经有部分研发成果。

3、容大感光300576：5月28日盘后最新消息，收盘报：37.9元，涨幅：8.91%，摔手率：33.42%，市盈率（动）：77.31，成交金额：228385.56万元，年初至今涨幅：16.07%，近期指标提示MACD金叉。概念解析：公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品，主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。

4、扬帆新材300637：5月28日盘后最新消息，收盘报：10.18元，涨幅：20.05%，摔手率：30%，市盈率（动）：-- ，成交金额：68985.95万元，年初至今涨幅：-2.21%，近期指标提示MACD金叉。概念解析：2020年4月10日互动平台显示：公司内蒙古基地募投项目主要的光引发剂品种包括TPO、184、1173、BDK等。公司部分光引发剂产品下游可应用于光刻胶等相关领域。

5、七彩化学300758：5月28日盘后最新消息，收盘报：13.19元，涨幅：2.01%，摔手率：18.6%，市盈率（动）：62，成交金额：89431.21万元，年初至今涨幅：30.46%，近期指标提示-- -- 。概念解析： 公司控股子公司绍兴上虞新利化工有限公司“2000 吨/年光敏性中间体及 600 吨/年高性能光刻胶系列产品技改项目”目前正在安装设备阶段。

6、张江高科600895：5月28日盘后最新消息，收盘报：19.64元，涨幅：3.86%，摔手率：9.59%，市盈率（动）：63.88，成交金额：296901.91万元，年初至今涨幅：1.76%，近期指标提示MACD金叉。概念解析：全资子公司张江浩成此次向微装公司投资人民币 223,450,000 元，投资完成后，张江浩成将持有微装公司 10.779%的股权。 微装公司是国内唯一一家研发、生产以及销售高端光刻机的企业，也是全球第四家生产IC前道光刻机的企业。微装公司拥有发明专利1442项，是国内工业4.0、先进制造、智能制造的典型代表。在先进封装光刻机等领域，微装公司的国内市场占有率超过80%，全球市场占有率为40%。

7、晶方科技603005：5月28日盘后最新消息，收盘报：18.6元，涨幅：3.85%，摔手率：10.91%，市盈率（动）：61.63，成交金额：132529.47万元，年初至今涨幅：-15.11%，近期指标提示KDJ金叉。概念解析：荷兰光刻机制造商ASML为公司参与并购的荷兰Anteryon公司的最主要客户之一。Anteryon为全球同时拥有混合镜头、晶圆级微型光学器件工艺技术设计、特性材料及量产能力的技术创新公司，其产品可广泛应用于半导体精密设备、工业自动化、汽车、安防、3D传感器为代表的消费类电子等应用领域。

8、彤程新材603650：5月28日盘后最新消息，收盘报：30.9元，涨幅：3.9%，摔手率：7.28%，市盈率（动）：32.09，成交金额：135705.95万元，年初至今涨幅：-7.21%，近期指标提示EXPMA金叉。概念解析：公司全资子公司彤程电子受让科华微电子33.70%的股权，已于2020年7月2日完成了相关工商变更登记。北京科华微电子成立于2004年8月，是国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司，是集光刻胶研发、生产、检测、销售于一体的中外合资企业，也是国内唯一一家拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的国家级高新技术企业。

9、格林达603931：5月28日盘后最新消息，收盘报：23.37元，涨幅：0.56%，摔手率：4.45%，市盈率（动）：34.2，成交金额：20999.55万元，年初至今涨幅：-8.67%，近期指标提示KDJ金叉。概念解析： 招股说明书披露：公司产品主要用于 LCD 显示面板制造中基板上颗粒和有机物的清洗、光刻胶的显影和剥离、电极的蚀刻等。

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